其實我們所見到的紅外影像就是采用了激光退火的工藝，其實這個激光退火的工藝已經(jīng)誕生了十多年的時間，但是因為某種原因，這種工藝技術(shù)一直都沒有被得到應(yīng)用，所以也就更沒有達到量產(chǎn)的地步了，當(dāng)然所有的工藝的興起都會經(jīng)歷這樣的一個發(fā)展期和不被認(rèn)可時期，如今的激光退火已經(jīng)得到了很大的應(yīng)用，多種工藝系統(tǒng)被進行了量產(chǎn)。

激光退火有他本身較大的特性，其實在高溫的工作情況下，整個擴散會變成最小化，因為只有這樣我們才能夠保證離子之后會回到一個原位的地方，而具體的工作中很多時候都需要這樣的一個處理情況，首先是rtp還有閃光燈的退火等。之前的活性溫度時間較高，但是現(xiàn)在已經(jīng)降低到了毫秒的一個范圍中。

在快速退火中，如今選擇閃光退火的更多，他在極熱的時候，會針對整個片晶體，與此同時整個晶圓的冷卻時間也會的不斷的延長，當(dāng)然這個時候他的擴散也在不斷發(fā)生，只不過激光退火正好是相反的工作情況，他是掃描了整個晶片，并且會在很短的時間內(nèi)出現(xiàn)熱量，而這個時候的溫度是低于硅的熔點，所以在這個工藝中，激光對火是最好的無擴散工藝了。

而這樣的激光退火工藝，在使用的過程中，一旦是停止了電能的供給，那么他的高溫將無法持續(xù)，當(dāng)然所謂的晶體也將無法達到自己想要的溫度，當(dāng)然并不只是電能停止的時候，他無法提供所謂的溫度給晶體，就是電壓不穩(wěn)，也無法正常進行，所以需要穩(wěn)定的電壓和不間斷的電源才可以實現(xiàn)，而這就需要ups不間斷電源的輔助，而這種輔助是必不可少的。

如今的激光退火工藝已經(jīng)基本趨于成熟，另外很多的激光退火工程師，他的考慮已經(jīng)開始在考慮活性之外了，而以往的傳統(tǒng)工藝容易容易出現(xiàn)擴散，這就是傳統(tǒng)最大的一個缺陷。所以說激光退火在經(jīng)過了多年以后，會找到一個屬于自己的發(fā)展之路。