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[優(yōu)比施動態(tài)]光刻機最新消息包含中國相關(guān)內(nèi)容進展消息2022年02月09日 22:40: 光刻機在如今的科技發(fā)展領(lǐng)域當中起著重要作用，如今剛剛進入2022年，對于中國未來科技領(lǐng)域發(fā)展中的光刻機來說仍然是需要不斷努力，目前來說光刻機荷蘭的光刻設(shè)備是先進的。另外，相對于很多工業(yè)設(shè)備所需的ups電源是可以直接咨詢我們優(yōu)比施廠家，廠家直接對接更放心。目前，高端光刻市場已經(jīng)完全被荷蘭ASML占領(lǐng)。由于缺乏技術(shù)水平，尼康和佳能7納米及以下芯片的制造能力已經(jīng)落后于ASML。目前最先進的技術(shù)是ASML開發(fā)的EUV光刻，可以適應(yīng)7納米到5納米工藝芯片的設(shè)計和制造。佳能的業(yè)務(wù)主; 閱讀（49）標簽：

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